摘要元件内部场分析器FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此使用傅立叶模态法/严格耦合波分析FMM/RCWA计算周期性结构透射或反射、电介质或金属内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化正向模式、反向模式或两者同时显示。元件内部场分析仪FMM元件内部场分析器FMM是光栅光学装置的独有功能可提供光栅结构内部电磁场的可视化。评估模式的选择为了更容易地区分入射场、反射场和透射场可以仅评估正向或反向传播模式或者评估两者的总和。评价区域的选择元件内部场分析器FMM可以输出整个元件包括基板内部的场或者只输出一个堆栈或基块基板中的场。不同光栅结构的场分布任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子光栅结构的采样虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项但系统中定义的光栅表面必须正确采样例如分解点和过渡点的层数足够。分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如如果层分解过于粗糙则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。输出数据的采样一维周期光栅Lamellar对于1D周期性片状光栅分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。输出数据的采样二维周期光栅当分析的光栅设置为2D Periodic时Field Inside Component AnalyzerFMM将通过结构生成一系列二元截面z方向的采样参数决定执行的切割次数。